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  • 预加热滑动双温区PECVD系统
    预加热滑动双温区PECVD系统产品特点:生长温度低;沉积速率快;成膜质量好,适用范围广,设备简单。
  • PECVD系统
    款PECVD系统配置:1.1200度开启式双温区真空管式炉2.等离子射频电源3.多路质量流量控制系统4.真空系统(可选配中真空或高真空)
  • PECVD-12II-3Z/G1200℃双温区PECVD系统
    此款PECVD系统配置: 1.1200度开启式双温区真空管式炉 2.等离子射频电源 3.多路质量流量控制系统 4.真空系统(可选配中真空或高真空)

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