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快速退火炉

型    号:
所属分类:滑轨式快速退火炉
报    价: 市场价:100
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快速退火炉操作便捷,电热元件采用红外灯管,升温速度快,节省时间,滑动法兰使装卸样品过程简化,方便操作,可快速得到实验结果,取消了反复的法兰安装过程,减少了炉管因安装造成的损坏。

快速退火炉产品概述:

产品用途

此款CVD生长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。

产品组成:

此款CVD系统配置:

1.1200度开启式真空管式炉(可选配单温区、双温区)。

2.多路质量流量控制系统

3.真空系统(可选配中真空或高真空)     

产品特点:

1 控制电路选用模糊PID程控技术,该技术控温精度高,热惯性小,温度不过冲,性能可靠,操作简单。

2 气路快速连接法兰结构采用本公司独有的知识产权设计,提高操作便捷性。

3 中真空系统具有真空度上下限自动控制功能,高真空系统采用高压强,耐冲击分子泵

 防止意外漏气造成分子泵损坏,延长系统使用寿命。


 

系统名称1200℃滑动式单/双温区CVD系统
系统型号CVD-12IH-3Z/GCVD-12IIH-3Z/GCVD-12II6H-3Z/G
zui高温度1200℃
加热区长度420mm420mm610mm
恒温区长度210mm280mm400mm
温区单温区双温区双温区
石英管管径Φ50/Φ60/Φ80/Φ100mmΦ50/Φ60/Φ80mmΦ80/Φ100mm
额定功率2.5Kw3.2Kw4.8Kw
额定电压220V
滑动距离290mm485mm
滑动方式自动滑动/手动滑动
温度控制国产程序控温系统50段程序控温;
控制精度±1℃
炉管zui高工作温度<1200℃
气路法兰密封法兰与管件连接的地方采用多环密封技术,在密封法兰与管外壁间形成了密封,在管件外径误差较大的情况下密封仍然有效,该密封法兰的安装只需在*次使用设备的时候安装
气体控制方式质量流量计
气路数量3路(可根据具体需要选配气路数量)
流量范围0-500sccm(标准毫升/分,可选配)氮气标定
精度±1%F.S
响应时间≤4sec
工作温度5-45℃
工作压力进气压力0.05-0.3Mpa(表压力)
系统连接方式采用KF快速连接波纹管、高真空手动挡板阀及数显真空测量仪
规格中真空高真空
系统真空范围10Pa-100Pa1x10-3Pa-1x10-1Pa
真空泵双级机械泵理论极限真空度3x10-1Pa,抽气速率4L/S,出气口配有油污过滤器,额定电压220V,功率0.55Kw真空分子泵理论极限真空度5x10-6Pa抽气速度1200L/S额定电压220V功率2KW真空分子泵理论极限真空度5x10-6Pa抽气速度1600L/S额定电压220V功率2KW
炉体外形尺寸340×580×555mm480×770×605mm
系统外形尺寸530x1440x750mm530x1440x750mm(不含高真空)
系统总重量230kg330kg
 

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